Runway je společnost, která se specializuje na vývoj umělé inteligence a strojového učení pro oblast umění, zábavy a lidské kreativity. Byla založena v roce 2018 a od té doby posunuje kreativitu vpřed pomocí pokročilého výzkumu v oblasti AI a ML. Všechny nástroje a platformy jsou vyvíjeny interně ve spolupráci s předními instituty po celém světě. Nyní se podíváme na některé klíčové aspekty Runway:

1. Nástroje a platformy: Runway nabízí různé nástroje, které umožňují generativní umění, konverzi textu na video, obrázku na video, pohybový štětec a další. Můžete vytvářet a experimentovat s uměleckými díly pomocí těchto nástrojů.

2. Výzkum: Runway provádí vlastní výzkum v oblasti umělé inteligence a strojového učení. Například nedávno představili General World Models, což je zajímavý koncept, který zkoumá obecné modely světa.

3. Spolupráce s umělci: Runway spolupracuje s umělci, aby jim umožnil využívat potenciál AI ve svých tvůrčích projektech. Mnoho umělců a tvůrců využívá Runway k vytváření nových a inovativních uměleckých děl.

4. Runway Studios: Runway se snaží umožnit tvůrcům sdílet své příběhy. Kromě technologických nástrojů také vytvářejí platformy a iniciativy, které podporují a oslavují novou generaci vypravěčů. Například AI Film Festival a Creative Dialogues jsou iniciativy, které spojují umělce a umožňují jim sdílet své myšlenky a tvorbu.

Pokud máte zájem, můžete si vyzkoušet Runway a jeho nástroje na jejich webové stránce. Je to skvělý způsob, jak objevovat nové možnosti v oblasti umění a kreativity!